聚四氟乙烯（特氟龙）实验室器皿

实验室酸清洗用聚四氟乙烯花篮式小尺寸硅片清洗承载架

货号 : PL-CP03

价格根据规格和定制情况变动

材料: 高纯度原生聚四氟乙烯
温度范围: -200°C 至 +260°C
定制化: 全数控定制槽宽和尺寸

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产品概述

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这款高性能实验室承载装置常被称为花篮，是精密基材湿法化学处理必不可少的工具。它采用高纯聚四氟乙烯（PTFE）加工而成，设计用于在浸入强腐蚀性清洗或蚀刻溶液过程中，牢固承载晶圆、硅片和光学元件。凭借优质氟聚合物本身的化学惰性，该装置为敏感材料提供无污染处理环境，确保关键研发与生产工艺符合最高纯度标准。

本产品主要应用场景覆盖半导体制造、太阳能电池生产和先进材料研究领域，尤其适用于玻璃或金属承载架会因腐蚀或离子析出失效的场景。承载架的特殊结构设计可让基材表面充分接触化学试剂，促进所有放置样品的清洗与蚀刻均匀一致，因此是微机电系统（MEMS）和精密光学领域研发生产机构必不可少的配套装置。

本产品专为严苛条件下的可靠使用打造，具备出色的热稳定性和机械强度。即使反复经历强酸浸泡和高温干燥工序，实验人员仍可信赖其稳定性能。结合精密CNC加工工艺与优质材料选型，该装置可长期可靠应用于工业和学术场景中的关键样品制备与清洗流程。

核心特点

高纯PTFE材质：采用100%全新聚四氟乙烯生产，对强酸（包括氢氟酸、王水）、强碱和有机溶剂具备彻底的耐化学腐蚀性，可避免样品污染和承载架降解损坏。
优化流体设计：经科学设计的槽位分布与开框结构保证清洗溶液在所有基材周围自由均匀流动，消除流动死区，确保处理结果均匀一致。
一体式安全手柄：配备坚固人体工学手柄，可安全手动将样品转移进出深化学槽，降低操作人员接触危险试剂的风险。
宽温稳定性能：凭借材料本身特性，承载架可在从低温到260°C的温度范围内可靠工作，同时适用于低温蚀刻和高温清洗工艺。
防粘表面特性：氟聚合物本身光滑低摩擦的表面可避免颗粒和化学残留附着，既方便清洁承载架本身，又降低交叉污染风险。
精密CNC加工：每件产品均采用先进CNC工艺加工，保证槽宽和间距的高精度，这对于保护易碎硅片免受机械应力至关重要。
结构稳定可靠：尽管重量轻便，承载架浸入溶液后仍能保持出色结构稳定性，即使在搅拌或超声波清洗过程中也不会发生变形或样品滑落。

应用领域

应用场景	说明	核心优势
半导体制造	采用RCA清洗或食人鱼溶液对硅片进行清洗和蚀刻。	无金属离子污染，化学耐久性优异。
光学镜片加工	在超声波清洗和表面活性剂浴工序中固定精密玻璃基材。	无损伤表面可避免划伤敏感光学涂层。
光伏生产	太阳能电池批量表面织构化处理和磷硅玻璃去除。	处理通量高，耐高浓度氢氟酸腐蚀。
材料科学研究	合金样品或陶瓷基材显微分析前的酸浸处理。	在浓硝酸和浓硫酸中性能稳定可靠。
MEMS制造	牺牲层湿法蚀刻工序中承载微加工晶圆。	槽位定位精准，可避免损坏精密微结构。
电化学制备	薄膜沉积前清洁电极和导电玻璃（ITO/FTO）。	可去除有机残留，不会引入新杂质。
纳米技术	基材浸入功能化溶液制备自组装单分子层。	对各类有机溶剂的兼容性优异。

技术参数

参数	规格详情（PL-CP03系列）
型号	PL-CP03
主体材质	高纯全新聚四氟乙烯（PTFE）
工作温度	-200°C 至 +260°C
化学兼容性	通用耐腐（兼容所有常见酸、碱和溶剂）
标准槽宽	可定制（通常0.5mm至3.0mm）
基材承载容量	10、15、20或25槽（可提供定制配置）
表面粗糙度	Ra < 0.4 μm（超光滑表面）
加工方式	实心PTFE坯料精密CNC加工
手柄类型	可选固定立式手柄或可拆挂钩式手柄
清洁方式	可高压灭菌；兼容超声波清洗